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制氮裝置等氮氣純化設備

簡要描述:制氮裝置等氮氣純化設備純氣含過量氫,適合需還原性氣氛的應用,氫含量可調(diào)。原理簡單,結(jié)構合理,能耗低,氣體指標溫度,雜質(zhì)含量低,可選配自動系統(tǒng),實現(xiàn)無人值守,應用范圍廣,對原料氣無特殊要求。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2021-07-28
  • 訪  問  量:1908

詳細介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè)

制氮裝置等氮氣純化設備原理;

O2 + H2 ----- HO2

       利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應生成水的原理,在氮氣中加入氫氣,混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應,去除氧雜質(zhì),再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水,得到高純氮氣。

 

制氮裝置等氮氣純化設備特點:

● 純氣含過量氫,適合需還原性氣氛的應用,氫含量可調(diào)。

● 原理簡單,結(jié)構合理,能耗低

● 氣體指標溫度,雜質(zhì)含量低

● 可選配自動系統(tǒng),實現(xiàn)無人值守

● 應用范圍廣,對原料氣無特殊要求

 

技術指標:

普通氮氣:

● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點—— 無要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10~5000Nm3/hr

 

高純氮氣:
● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調(diào))
● 常壓露點——≤-70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮氣量——10~5000Nm3/hr

 

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